স্পুটারিং লক্ষ্যের অ্যাপ্লিকেশন ক্ষেত্র

আমরা সবাই জানি, স্পাটারিং টার্গেটের অনেক স্পেসিফিকেশন রয়েছে এবং তাদের প্রয়োগের ক্ষেত্রগুলিও খুব প্রশস্ত।বিভিন্ন ক্ষেত্রে সাধারণত ব্যবহৃত টার্গেটের ধরনও আলাদা।আজ, আরএসএম সম্পাদকের সাথে স্পাটারিং টার্গেট অ্যাপ্লিকেশন ফিল্ডের শ্রেণীবিভাগ সম্পর্কে জেনে নেওয়া যাক!

　　1, sputtering লক্ষ্য সংজ্ঞা

পাতলা ফিল্ম উপকরণ প্রস্তুত করার জন্য Sputtering প্রধান প্রযুক্তি এক.এটি আয়ন উত্স দ্বারা উত্পাদিত আয়নগুলিকে ত্বরান্বিত করতে এবং ভ্যাকুয়ামে একত্রিত করে একটি উচ্চ-গতির আয়ন রশ্মি তৈরি করতে ব্যবহার করে, কঠিন পৃষ্ঠে বোমাবর্ষণ করে এবং আয়নগুলি কঠিন পৃষ্ঠের পরমাণুর সাথে গতিশক্তি বিনিময় করে, যাতে কঠিন পৃষ্ঠের পরমাণুগুলি পৃষ্ঠ কঠিন থেকে পৃথক এবং স্তর পৃষ্ঠের উপর জমা হয়.বোমবার্ডেড সলিড হল স্পাটারিং দ্বারা জমা পাতলা ফিল্ম প্রস্তুত করার কাঁচামাল, যাকে স্পাটারিং টার্গেট বলা হয়।

　　2, sputtering লক্ষ্য অ্যাপ্লিকেশন ক্ষেত্রের শ্রেণীবিভাগ

　1. সেমিকন্ডাক্টর টার্গেট

(1) সাধারণ লক্ষ্য: এই ক্ষেত্রের সাধারণ লক্ষ্যগুলির মধ্যে রয়েছে উচ্চ গলনাঙ্কের ধাতু যেমন ট্যান্টালাম/তামা/টাইটানিয়াম/অ্যালুমিনিয়াম/সোনা/নিকেল।

(2) ব্যবহার: প্রধানত সমন্বিত সার্কিটগুলির জন্য মূল কাঁচামাল হিসাবে ব্যবহৃত হয়।

(3) কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তা: বিশুদ্ধতা, আকার, একীকরণ, ইত্যাদির জন্য উচ্চ প্রযুক্তিগত প্রয়োজনীয়তা।

　　2. সমতল প্যানেল প্রদর্শনের লক্ষ্য

(1) সাধারণ লক্ষ্য: এই ক্ষেত্রের সাধারণ লক্ষ্যগুলির মধ্যে রয়েছে অ্যালুমিনিয়াম/তামা/মলিবডেনাম/নিকেল/নিওবিয়াম/সিলিকন/ক্রোমিয়াম ইত্যাদি।

(2) ব্যবহার: এই ধরনের টার্গেট বেশিরভাগই বিভিন্ন ধরনের বৃহৎ-এলাকার চলচ্চিত্র যেমন টিভি এবং নোটবুকের জন্য ব্যবহৃত হয়।

(3) কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তা: বিশুদ্ধতা, বড় এলাকা, অভিন্নতা ইত্যাদির জন্য উচ্চ প্রয়োজনীয়তা।

　　3. সৌর কোষের লক্ষ্যবস্তু

(1) সাধারণ লক্ষ্যগুলি: অ্যালুমিনিয়াম / তামা / মলিবডেনাম / ক্রোমিয়াম /ITO/Ta এবং সৌর কোষগুলির জন্য অন্যান্য লক্ষ্যগুলি।

(2) ব্যবহার: প্রধানত "উইন্ডো স্তর", বাধা স্তর, ইলেক্ট্রোড এবং পরিবাহী ফিল্মে ব্যবহৃত হয়।

(3) কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তা: উচ্চ প্রযুক্তিগত প্রয়োজনীয়তা এবং ব্যাপক অ্যাপ্লিকেশন পরিসীমা.

　　4. তথ্য সংরক্ষণের লক্ষ্য

(1) সাধারণ লক্ষ্য: কোবাল্ট/নিকেল/ফেরোঅ্যালয়/ক্রোমিয়াম/টেলুরিয়াম/সেলেনিয়াম এবং তথ্য সংরক্ষণের জন্য অন্যান্য উপকরণের সাধারণ লক্ষ্য।

(2) ব্যবহার: এই ধরনের লক্ষ্য উপাদান প্রধানত চৌম্বকীয় মাথা, মধ্যম স্তর এবং অপটিক্যাল ড্রাইভ এবং অপটিক্যাল ডিস্কের নীচের স্তরের জন্য ব্যবহৃত হয়।

(3) কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তা: উচ্চ স্টোরেজ ঘনত্ব এবং উচ্চ সংক্রমণ গতি প্রয়োজন।

　　5. টুল পরিবর্তনের লক্ষ্য

(1) সাধারণ লক্ষ্য: সাধারণ লক্ষ্য যেমন টাইটানিয়াম / জিরকোনিয়াম / ক্রোমিয়াম অ্যালুমিনিয়াম খাদ সরঞ্জাম দ্বারা পরিবর্তিত।

(2) ব্যবহার: সাধারণত পৃষ্ঠ শক্তিশালীকরণের জন্য ব্যবহৃত হয়।

(3) কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তা: উচ্চ কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তা এবং দীর্ঘ সেবা জীবন.

　　6. ইলেকট্রনিক ডিভাইসের জন্য লক্ষ্য

(1) সাধারণ লক্ষ্য: ইলেকট্রনিক ডিভাইসের জন্য সাধারণ অ্যালুমিনিয়াম খাদ / সিলিসাইড লক্ষ্য

(2) উদ্দেশ্য: সাধারণত পাতলা ফিল্ম প্রতিরোধক এবং ক্যাপাসিটারগুলির জন্য ব্যবহৃত হয়।

(3) কর্মক্ষমতা প্রয়োজনীয়তা: ছোট আকার, স্থিতিশীলতা, কম প্রতিরোধের তাপমাত্রা সহগ