আমরা সবাই জানি, টার্গেট ম্যাটেরিয়াল প্রযুক্তির বিকাশের প্রবণতা ডাউনস্ট্রিম অ্যাপ্লিকেশন শিল্পে ফিল্ম প্রযুক্তির বিকাশের প্রবণতার সাথে ঘনিষ্ঠভাবে সম্পর্কিত।অ্যাপ্লিকেশন শিল্পে ফিল্ম পণ্য বা উপাদানগুলির প্রযুক্তিগত উন্নতির সাথে, লক্ষ্য প্রযুক্তিরও পরিবর্তন হওয়া উচিত।উদাহরণ স্বরূপ, আইসি নির্মাতারা সম্প্রতি কম প্রতিরোধ ক্ষমতার তামার তারের উন্নয়নের দিকে মনোনিবেশ করেছেন, যা আগামী কয়েক বছরে আসল অ্যালুমিনিয়াম ফিল্মকে উল্লেখযোগ্যভাবে প্রতিস্থাপন করবে বলে আশা করা হচ্ছে, তাই তামার লক্ষ্য এবং তাদের প্রয়োজনীয় বাধা লক্ষ্যগুলির বিকাশ জরুরি হবে।
উপরন্তু, সাম্প্রতিক বছরগুলিতে, ফ্ল্যাট প্যানেল ডিসপ্লে (FPD) মূলত ক্যাথোড-রে টিউব (CRT)-ভিত্তিক কম্পিউটার ডিসপ্লে এবং টেলিভিশন বাজারকে প্রতিস্থাপন করেছে।এটি আইটিও লক্ষ্যগুলির জন্য প্রযুক্তিগত এবং বাজারের চাহিদাও ব্যাপকভাবে বৃদ্ধি করবে।এবং তারপর স্টোরেজ প্রযুক্তি আছে.উচ্চ-ঘনত্ব, বড়-ক্ষমতার হার্ড ড্রাইভ এবং উচ্চ-ঘনত্ব ইরেজেবল ডিস্কের চাহিদা বাড়তে থাকে।এই সমস্ত অ্যাপ্লিকেশন শিল্পে লক্ষ্য উপকরণের চাহিদা পরিবর্তনের দিকে পরিচালিত করেছে।নিম্নলিখিত, আমরা লক্ষ্যের প্রধান প্রয়োগ ক্ষেত্র এবং এই ক্ষেত্রে লক্ষ্যের বিকাশের প্রবণতা উপস্থাপন করব।
1. মাইক্রোইলেক্ট্রনিক্স
সমস্ত অ্যাপ্লিকেশন শিল্পে, সেমিকন্ডাক্টর শিল্পের লক্ষ্য স্পটারিং ফিল্মের জন্য সবচেয়ে কঠোর মানের প্রয়োজনীয়তা রয়েছে।12 ইঞ্চি (300 এপিস্ট্যাক্সিস) এর সিলিকন ওয়েফার এখন তৈরি করা হয়েছে।আন্তঃসংযোগের প্রস্থ কমছে।লক্ষ্যবস্তুগুলির জন্য সিলিকন ওয়েফার প্রস্তুতকারকদের প্রয়োজনীয়তাগুলি হল বড় স্কেল, উচ্চ বিশুদ্ধতা, কম পৃথকীকরণ এবং সূক্ষ্ম শস্য, যার জন্য লক্ষ্য উপকরণগুলির আরও ভাল মাইক্রোস্ট্রাকচার প্রয়োজন।স্ফটিক কণার ব্যাস এবং লক্ষ্যবস্তুর অভিন্নতা ফিল্ম জমার হারকে প্রভাবিত করে এমন মূল কারণ হিসাবে বিবেচিত হয়েছে।
অ্যালুমিনিয়ামের সাথে তুলনা করে, তামার উচ্চতর ইলেক্ট্রোমোবিলিটি রেজিস্ট্যান্স এবং কম প্রতিরোধ ক্ষমতা রয়েছে, যা 0.25um এর নিচে সাবমাইক্রন ওয়্যারিংয়ে কন্ডাকটর প্রযুক্তির প্রয়োজনীয়তা পূরণ করতে পারে, কিন্তু এটি অন্যান্য সমস্যা নিয়ে আসে: তামা এবং জৈব মাঝারি পদার্থের মধ্যে কম আনুগত্য শক্তি।তদুপরি, এটি প্রতিক্রিয়া করা সহজ, যা চিপ ব্যবহারের সময় তামার আন্তঃসংযোগের ক্ষয় এবং সার্কিট ভাঙার দিকে পরিচালিত করে।এই সমস্যাটি সমাধান করার জন্য, তামা এবং অস্তরক স্তরের মধ্যে একটি বাধা স্তর স্থাপন করা উচিত।
তামার আন্তঃসংযোগের বাধা স্তরে ব্যবহৃত লক্ষ্যবস্তুগুলির মধ্যে রয়েছে Ta, W, TaSi, WSi ইত্যাদি। কিন্তু Ta এবং W হল অবাধ্য ধাতু।এটি তৈরি করা তুলনামূলকভাবে কঠিন, এবং মলিবডেনাম এবং ক্রোমিয়ামের মতো মিশ্রণগুলি বিকল্প উপকরণ হিসাবে অধ্যয়ন করা হচ্ছে।
2. প্রদর্শনের জন্য
ফ্ল্যাট প্যানেল ডিসপ্লে (FPD) বছরের পর বছর ধরে ক্যাথোড-রে টিউব (CRT)-ভিত্তিক কম্পিউটার মনিটর এবং টেলিভিশনের বাজারকে ব্যাপকভাবে প্রভাবিত করেছে এবং এটি আইটিও লক্ষ্য উপকরণগুলির জন্য প্রযুক্তি এবং বাজারের চাহিদাকেও চালিত করবে।আজ দুই ধরনের আইটিও লক্ষ্যমাত্রা রয়েছে।একটি হল সিন্টারিং করার পরে ন্যানোমিটার স্টেট অফ ইন্ডিয়াম অক্সাইড এবং টিন অক্সাইড পাউডার ব্যবহার করা, অন্যটি হল ইন্ডিয়াম টিন অ্যালয় টার্গেট ব্যবহার করা।আইটিও ফিল্মটি ইন্ডিয়াম-টিন অ্যালয় টার্গেটে ডিসি রিঅ্যাকটিভ স্পুটারিং দ্বারা তৈরি করা যেতে পারে, তবে লক্ষ্য পৃষ্ঠটি অক্সিডাইজ করবে এবং স্পুটারিং হারকে প্রভাবিত করবে এবং বড় আকারের অ্যালয় লক্ষ্য অর্জন করা কঠিন।
আজকাল, প্রথম পদ্ধতিটি সাধারণত ITO লক্ষ্যবস্তু তৈরি করার জন্য গৃহীত হয়, যা ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং প্রতিক্রিয়া দ্বারা স্পুটারিং আবরণ।এটি একটি দ্রুত জমা হার আছে.ফিল্ম বেধ সঠিকভাবে নিয়ন্ত্রণ করা যেতে পারে, পরিবাহিতা উচ্চ, ফিল্মের সামঞ্জস্য ভাল, এবং সাবস্ট্রেটের আনুগত্য শক্তিশালী।কিন্তু লক্ষ্যবস্তু তৈরি করা কঠিন, কারণ ইন্ডিয়াম অক্সাইড এবং টিন অক্সাইড একসাথে সহজে সিন্টার হয় না।সাধারণত, ZrO2, Bi2O3 এবং CeO sintering additives হিসাবে নির্বাচন করা হয়, এবং তাত্ত্বিক মানের 93%~98% ঘনত্ব সহ লক্ষ্যবস্তু প্রাপ্ত করা যেতে পারে।এইভাবে গঠিত আইটিও ফিল্মের পারফরম্যান্সের সংযোজনগুলির সাথে একটি দুর্দান্ত সম্পর্ক রয়েছে।
এই ধরনের লক্ষ্যবস্তু ব্যবহার করে প্রাপ্ত ITO ফিল্মের ব্লকিং প্রতিরোধ ক্ষমতা 8.1×10n-সেমিতে পৌঁছে যা বিশুদ্ধ ITO ফিল্মের প্রতিরোধ ক্ষমতার কাছাকাছি।FPD এবং পরিবাহী কাচের আকার বেশ বড়, এবং পরিবাহী কাচের প্রস্থ এমনকি 3133 মিমি পর্যন্ত পৌঁছাতে পারে।লক্ষ্য উপকরণের ব্যবহার উন্নত করার জন্য, বিভিন্ন আকারের আইটিও লক্ষ্য উপকরণ যেমন নলাকার আকৃতি তৈরি করা হয়।2000 সালে, ন্যাশনাল ডেভেলপমেন্ট প্ল্যানিং কমিশন এবং বিজ্ঞান ও প্রযুক্তি মন্ত্রনালয় তথ্য শিল্পের প্রধান ক্ষেত্রগুলির জন্য নির্দেশিকাগুলিতে ITO বৃহৎ লক্ষ্যগুলিকে অন্তর্ভুক্ত করে যা বর্তমানে উন্নয়নের জন্য অগ্রাধিকার দেওয়া হয়েছে।
3. স্টোরেজ ব্যবহার
স্টোরেজ প্রযুক্তির পরিপ্রেক্ষিতে, উচ্চ-ঘনত্ব এবং বৃহৎ-ক্ষমতার হার্ড ডিস্কগুলির বিকাশের জন্য প্রচুর সংখ্যক দৈত্য অনিচ্ছা ফিল্ম উপকরণ প্রয়োজন।CoF~Cu মাল্টিলেয়ার কম্পোজিট ফিল্ম হল বিশালাকার অনিচ্ছা ফিল্মের একটি বহুল ব্যবহৃত কাঠামো।চৌম্বকীয় ডিস্কের জন্য প্রয়োজনীয় TbFeCo খাদ লক্ষ্যবস্তু এখনও আরও বিকাশে রয়েছে।TbFeCo দিয়ে তৈরি চৌম্বকীয় ডিস্কের বৈশিষ্ট্য রয়েছে বড় স্টোরেজ ক্ষমতা, দীর্ঘ পরিষেবা জীবন এবং বারবার নন-কন্টাক্ট ইরেজেবিলিটি।
অ্যান্টিমনি জার্মেনিয়াম টেলউরাইড ভিত্তিক ফেজ চেঞ্জ মেমরি (পিসিএম) উল্লেখযোগ্য বাণিজ্যিক সম্ভাবনা দেখায়, অংশ হয়ে ওঠে বা ফ্ল্যাশ মেমরি এবং ডিআরএএম বাজার একটি বিকল্প স্টোরেজ প্রযুক্তি, তবে, বাস্তবায়নের ক্ষেত্রে আরও দ্রুত স্কেল করা হয়েছে রাস্তায় বিদ্যমান চ্যালেঞ্জগুলির মধ্যে একটি হল রিসেট না হওয়া। বর্তমান উৎপাদন সম্পূর্ণরূপে সিল ইউনিট আরও কম করা যেতে পারে.রিসেট কারেন্ট হ্রাস করা মেমরি পাওয়ার খরচ কমায়, ব্যাটারির আয়ু বাড়ায় এবং ডেটা ব্যান্ডউইথ উন্নত করে, আজকের ডেটা-কেন্দ্রিক, অত্যন্ত পোর্টেবল ভোক্তা ডিভাইসগুলিতে সমস্ত গুরুত্বপূর্ণ বৈশিষ্ট্য।
পোস্টের সময়: আগস্ট-০৯-২০২২