সম্প্রতি, অনেক বন্ধু মলিবডেনাম স্পুটারিং লক্ষ্যগুলির বৈশিষ্ট্য সম্পর্কে জিজ্ঞাসা করেছে।ইলেকট্রনিক শিল্পে, স্পাটারিং দক্ষতা উন্নত করতে এবং জমাকৃত ফিল্মের গুণমান নিশ্চিত করতে, মলিবডেনাম স্পাটারিং লক্ষ্যগুলির বৈশিষ্ট্যগুলির জন্য প্রয়োজনীয়তাগুলি কী কী?এখন আরএসএমের কারিগরি বিশেষজ্ঞরা আমাদের এটি ব্যাখ্যা করবেন।
1. বিশুদ্ধতা
উচ্চ বিশুদ্ধতা মলিবডেনাম স্পুটারিং লক্ষ্যের একটি মৌলিক বৈশিষ্ট্যগত প্রয়োজন।মলিবডেনাম টার্গেটের বিশুদ্ধতা যত বেশি হবে, স্পুটারড ফিল্মের কর্মক্ষমতা তত ভাল।সাধারণত, মলিবডেনাম স্পুটারিং লক্ষ্যের বিশুদ্ধতা কমপক্ষে 99.95% হওয়া উচিত (ভাংশ ভগ্নাংশ, নীচে একই)।যাইহোক, এলসিডি শিল্পে গ্লাস সাবস্ট্রেটের আকারের ক্রমাগত উন্নতির সাথে, তারের দৈর্ঘ্য প্রসারিত করা প্রয়োজন এবং লাইনউইথ পাতলা করা প্রয়োজন।ফিল্মের অভিন্নতা এবং তারের গুণমান নিশ্চিত করার জন্য, মলিবডেনাম স্পটারিং লক্ষ্যের বিশুদ্ধতাও সেই অনুযায়ী বাড়ানো প্রয়োজন।অতএব, স্পুটারড গ্লাস সাবস্ট্রেটের আকার এবং ব্যবহারের পরিবেশ অনুসারে, মলিবডেনাম স্পাটারিং লক্ষ্যের বিশুদ্ধতা 99.99% - 99.999% বা তারও বেশি হওয়া প্রয়োজন।
মলিবডেনাম স্পাটারিং টার্গেট স্পাটারিং-এ ক্যাথোড উত্স হিসাবে ব্যবহৃত হয়।কঠিন এবং অক্সিজেনের অমেধ্য এবং ছিদ্রগুলিতে জলীয় বাষ্প জমা হওয়া ছায়াছবির প্রধান দূষণের উত্স।উপরন্তু, ইলেকট্রনিক শিল্পে, যেহেতু ক্ষারীয় ধাতু আয়নগুলি (Na, K) অন্তরণ স্তরে মোবাইল আয়ন হওয়া সহজ, মূল ডিভাইসের কর্মক্ষমতা হ্রাস পায়;ইউরেনিয়াম (U) এবং টাইটানিয়াম (TI) এর মতো উপাদানগুলি α এক্স-রে নির্গত হবে, যার ফলে ডিভাইসগুলি নরম ভাঙ্গবে;আয়রন এবং নিকেল আয়ন ইন্টারফেস ফুটো এবং অক্সিজেন উপাদান বৃদ্ধি ঘটাবে.অতএব, মলিবডেনাম স্পাটারিং লক্ষ্যমাত্রার প্রস্তুতির প্রক্রিয়ায়, এই অপবিত্রতা উপাদানগুলিকে লক্ষ্যে তাদের বিষয়বস্তু কমিয়ে আনার জন্য কঠোরভাবে নিয়ন্ত্রণ করা প্রয়োজন।
2. শস্য আকার এবং আকার বিতরণ
সাধারণত, মলিবডেনাম স্পুটারিং লক্ষ্য হল পলিক্রিস্টালাইন গঠন, এবং শস্যের আকার মাইক্রোন থেকে মিলিমিটার পর্যন্ত হতে পারে।পরীক্ষামূলক ফলাফল দেখায় যে সূক্ষ্ম শস্য লক্ষ্যমাত্রার স্পুটারিং হার মোটা শস্য লক্ষ্যমাত্রার চেয়ে দ্রুত;ছোট শস্য আকার পার্থক্য সঙ্গে লক্ষ্যের জন্য, জমা ফিল্ম পুরুত্ব বন্টন এছাড়াও আরো অভিন্ন.
3. ক্রিস্টাল অভিযোজন
কারণ টার্গেট পরমাণুগুলি স্পাটারিংয়ের সময় ষড়ভুজাকার দিকের পরমাণুর নিকটতম বিন্যাসের দিক বরাবর অগ্রাধিকারমূলকভাবে স্পুটার করা সহজ, সর্বোচ্চ স্পটারিং রেট অর্জন করার জন্য, টার্গেটের স্ফটিক গঠন পরিবর্তন করে প্রায়শই স্পাটারিং রেট বৃদ্ধি করা হয়।টার্গেটের স্ফটিক দিকটিও ছিদ্রযুক্ত ফিল্মের পুরুত্বের অভিন্নতার উপর একটি দুর্দান্ত প্রভাব ফেলে।অতএব, ফিল্মের স্পাটারিং প্রক্রিয়ার জন্য একটি নির্দিষ্ট স্ফটিক ভিত্তিক লক্ষ্য কাঠামো প্রাপ্ত করা অত্যন্ত গুরুত্বপূর্ণ।
4. ঘনত্ব
স্পাটারিং আবরণের প্রক্রিয়ায়, যখন কম ঘনত্বের স্পুটারিং লক্ষ্যবস্তুতে বোমাবর্ষণ করা হয়, তখন লক্ষ্যের অভ্যন্তরীণ ছিদ্রগুলিতে বিদ্যমান গ্যাস হঠাৎ নির্গত হয়, যার ফলে বড় আকারের লক্ষ্য কণা বা কণার স্প্ল্যাশ হয় বা ফিল্ম উপাদান বোমাবর্ষণ হয়। ফিল্ম গঠনের পরে সেকেন্ডারি ইলেকট্রন দ্বারা, কণা স্প্ল্যাশিং ফলে।এই কণাগুলির উপস্থিতি ফিল্মের গুণমানকে হ্রাস করবে।টার্গেট সলিডের ছিদ্র কমাতে এবং ফিল্ম পারফরম্যান্স উন্নত করতে, স্পটারিং টার্গেটের সাধারণত উচ্চ ঘনত্ব থাকা প্রয়োজন।মলিবডেনাম স্পুটারিং লক্ষ্যের জন্য, এর আপেক্ষিক ঘনত্ব 98% এর বেশি হওয়া উচিত।
5. লক্ষ্য এবং চ্যাসিস বাঁধাই
সাধারণত, স্পটারিং করার আগে মলিবডেনাম স্পুটারিং টার্গেটকে অবশ্যই অক্সিজেন মুক্ত কপার (বা অ্যালুমিনিয়াম এবং অন্যান্য উপকরণ) চেসিসের সাথে সংযুক্ত করতে হবে, যাতে স্পাটারিং প্রক্রিয়ার সময় লক্ষ্য এবং চ্যাসিসের তাপ পরিবাহিতা ভাল থাকে।বাঁধাই করার পরে, অতিস্বনক পরিদর্শনটি নিশ্চিত করতে হবে যে দুটির বন্ধনহীন ক্ষেত্রটি 2% এর কম তা নিশ্চিত করতে হবে, যাতে পড়ে না গিয়ে উচ্চ-শক্তির স্পটারিংয়ের প্রয়োজনীয়তাগুলি পূরণ করা যায়।
পোস্টের সময়: জুলাই-১৯-২০২২