আমরা সবাই জানি, ভ্যাকুয়াম আবরণে সাধারণত ভ্যাকুয়াম বাষ্পীভবন এবং আয়ন স্পুটারিং ব্যবহার করা হয়।বাষ্পীভবন আবরণ এবং sputtering আবরণ মধ্যে পার্থক্য কি?এরপর, আরএসএম-এর প্রযুক্তি বিশেষজ্ঞরা আমাদের সাথে শেয়ার করবেন।
ভ্যাকুয়াম বাষ্পীভবন আবরণ হল 10-2Pa-এর কম নয় এমন একটি পরিবেশে রেজিস্ট্যান্স হিটিং বা ইলেকট্রন বিম এবং লেজার বোমাবাজির মাধ্যমে একটি নির্দিষ্ট তাপমাত্রায় বাষ্পীভূত করার জন্য উপাদানটিকে গরম করা, যাতে অণুর তাপীয় কম্পন শক্তি বা উপাদানের পরমাণুগুলি পৃষ্ঠের বাঁধাই শক্তিকে ছাড়িয়ে যায়, যাতে প্রচুর সংখ্যক অণু বা পরমাণু বাষ্পীভূত হয় বা পরমান্বিত হয় এবং একটি ফিল্ম গঠনের জন্য সরাসরি স্তরের উপর অবক্ষয় করে।আয়ন স্পুটারিং আবরণ বৈদ্যুতিক ক্ষেত্রের ক্রিয়াকলাপের অধীনে গ্যাস নিঃসরণ দ্বারা উত্পন্ন ধনাত্মক আয়নগুলির উচ্চ-গতির গতিবিধি ব্যবহার করে লক্ষ্যবস্তুতে ক্যাথোড হিসাবে বোমাবর্ষণ করে, যাতে লক্ষ্যবস্তুতে থাকা পরমাণু বা অণুগুলি ধাতুপট্টাবৃত ওয়ার্কপিসের পৃষ্ঠে প্রবাহিত হয় প্রয়োজনীয় ফিল্ম।
ভ্যাকুয়াম বাষ্পীভবন আবরণ সবচেয়ে সাধারণভাবে ব্যবহৃত পদ্ধতি হল প্রতিরোধের গরম, যা সহজ গঠন, কম খরচে এবং সুবিধাজনক অপারেশন সুবিধা আছে;অসুবিধা হল যে এটি অবাধ্য ধাতু এবং উচ্চ তাপমাত্রা প্রতিরোধী অস্তরক পদার্থের জন্য উপযুক্ত নয়।ইলেক্ট্রন বিম হিটিং এবং লেজার হিটিং প্রতিরোধের গরম করার ত্রুটিগুলি কাটিয়ে উঠতে পারে।ইলেক্ট্রন বীম গরম করার ক্ষেত্রে, ফোকাসড ইলেক্ট্রন রশ্মি সরাসরি বোমাযুক্ত উপাদানকে গরম করতে ব্যবহৃত হয় এবং ইলেকট্রন বিমের গতিশক্তি তাপ শক্তিতে পরিণত হয়, যা উপাদানটিকে বাষ্পীভূত করে।লেজার হিটিং উচ্চ-পাওয়ার লেজারকে গরম করার উত্স হিসাবে ব্যবহার করে, কিন্তু উচ্চ-শক্তি লেজারের উচ্চ ব্যয়ের কারণে, বর্তমানে এটি শুধুমাত্র কয়েকটি গবেষণাগারে ব্যবহার করা যেতে পারে।
স্পাটারিং প্রযুক্তি ভ্যাকুয়াম বাষ্পীভবন প্রযুক্তি থেকে আলাদা।"স্পটারিং" এমন ঘটনাকে বোঝায় যা চার্জযুক্ত কণাগুলি কঠিন পৃষ্ঠের (লক্ষ্য) উপর বোমাবর্ষণ করে এবং পৃষ্ঠ থেকে কঠিন পরমাণু বা অণুগুলিকে ছিটকে দেয়।বেশিরভাগ নির্গত কণাই পারমাণবিক অবস্থায় থাকে, যাকে প্রায়শই স্পুটারড পরমাণু বলা হয়।লক্ষ্যবস্তুতে বোমাবর্ষণ করতে ব্যবহৃত ছিদ্রযুক্ত কণাগুলি ইলেকট্রন, আয়ন বা নিরপেক্ষ কণা হতে পারে।যেহেতু আয়নগুলি প্রয়োজনীয় গতিশক্তি পাওয়ার জন্য বৈদ্যুতিক ক্ষেত্রের নীচে ত্বরান্বিত করা সহজ, তাদের বেশিরভাগই আয়নগুলিকে বোমাযুক্ত কণা হিসাবে ব্যবহার করে।স্পুটারিং প্রক্রিয়া গ্লো ডিসচার্জের উপর ভিত্তি করে, অর্থাৎ, স্পাটারিং আয়নগুলি গ্যাস স্রাব থেকে আসে।বিভিন্ন স্পুটারিং প্রযুক্তি বিভিন্ন গ্লো ডিসচার্জ মোড গ্রহণ করে।ডিসি ডায়োড স্পুটারিং ডিসি গ্লো স্রাব ব্যবহার করে;Triode sputtering গরম ক্যাথোড দ্বারা সমর্থিত একটি গ্লো স্রাব;আরএফ স্পুটারিং আরএফ গ্লো স্রাব ব্যবহার করে;ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং হল একটি চকচকে স্রাব যা একটি বৃত্তাকার চৌম্বক ক্ষেত্র দ্বারা নিয়ন্ত্রিত হয়।
ভ্যাকুয়াম বাষ্পীভবন আবরণ সঙ্গে তুলনা, sputtering আবরণ অনেক সুবিধা আছে.উদাহরণ স্বরূপ, যে কোনো পদার্থের ছিটকে পড়তে পারে, বিশেষ করে উচ্চ গলনাঙ্ক এবং কম বাষ্পের চাপ সহ উপাদান এবং যৌগ;sputtered ফিল্ম এবং সাবস্ট্রেট মধ্যে আনুগত্য ভাল;উচ্চ ফিল্ম ঘনত্ব;ফিল্মের বেধ নিয়ন্ত্রণ করা যায় এবং পুনরাবৃত্তিযোগ্যতা ভাল।অসুবিধা হল যে সরঞ্জাম জটিল এবং উচ্চ-ভোল্টেজ ডিভাইস প্রয়োজন।
উপরন্তু, বাষ্পীভবন পদ্ধতি এবং স্পুটারিং পদ্ধতির সমন্বয় হল আয়ন প্রলেপ।এই পদ্ধতির সুবিধা হল যে প্রাপ্ত ফিল্মটির সাবস্ট্রেটের সাথে শক্তিশালী আনুগত্য, উচ্চ জমার হার এবং উচ্চ ফিল্ম ঘনত্ব রয়েছে।
পোস্টের সময়: জুলাই-২০-২০২২