ভ্যাকুয়াম আবরণ মধ্যে স্পুটারিং লক্ষ্য ফাংশন

লক্ষ্য অনেক প্রভাব আছে, এবং বাজার উন্নয়ন স্থান বড়.এটা অনেক ক্ষেত্রে খুব দরকারী.প্রায় সমস্ত নতুন স্পুটারিং সরঞ্জামগুলি লক্ষ্যের চারপাশে আর্গনের আয়নকরণকে ত্বরান্বিত করতে ইলেকট্রনকে সর্পিল করার জন্য শক্তিশালী চুম্বক ব্যবহার করে, যার ফলে লক্ষ্য এবং আর্গন আয়নের মধ্যে সংঘর্ষের সম্ভাবনা বৃদ্ধি পায়।এখন ভ্যাকুয়াম আবরণে স্পুটারিং টার্গেটের ভূমিকাটি দেখে নেওয়া যাক।

sputtering হার উন্নত.সাধারণত, DC স্পটারিং ধাতব আবরণের জন্য ব্যবহৃত হয়, যখন RF AC স্পটারিং অ-পরিবাহী সিরামিক চৌম্বকীয় পদার্থের জন্য ব্যবহৃত হয়।মূল নীতি হল ভ্যাকুয়ামে লক্ষ্যবস্তুতে আর্গন (AR) আয়নগুলিকে আঘাত করার জন্য গ্লো ডিসচার্জ ব্যবহার করা এবং প্লাজমার ক্যাটেশনগুলি স্প্ল্যাশ করা উপাদান হিসাবে নেতিবাচক ইলেক্ট্রোড পৃষ্ঠে ছুটে যাওয়ার জন্য ত্বরান্বিত হবে।এই প্রভাব লক্ষ্যবস্তুর উপাদান উড়ে যাবে এবং একটি ফিল্ম তৈরি করতে সাবস্ট্রেটে জমা করবে।

সাধারণভাবে বলতে গেলে, স্পুটারিং প্রক্রিয়ার মাধ্যমে ফিল্মের আবরণের বেশ কিছু বৈশিষ্ট্য রয়েছে: (1) ধাতু, খাদ বা অন্তরক দিয়ে ফিল্ম ডেটা তৈরি করা যেতে পারে।

(2) উপযুক্ত সেটিং অবস্থার অধীনে, একই রচনা সহ ফিল্ম একাধিক এবং বিকৃত লক্ষ্য থেকে তৈরি করা যেতে পারে।

(3) নিঃসরণ বায়ুমণ্ডলে অক্সিজেন বা অন্যান্য সক্রিয় গ্যাস যোগ করে লক্ষ্যবস্তু এবং গ্যাসের অণুগুলির মিশ্রণ বা যৌগ তৈরি করা যেতে পারে।

(4) লক্ষ্য ইনপুট বর্তমান এবং sputtering সময় নিয়ন্ত্রিত করা যেতে পারে, এবং এটি উচ্চ নির্ভুল ফিল্ম বেধ প্রাপ্ত করা সহজ.

(5) অন্যান্য প্রক্রিয়ার সাথে তুলনা করে, এটি বৃহৎ-এলাকার ইউনিফর্ম ফিল্ম তৈরির জন্য উপযোগী।

(6) বিক্ষিপ্ত কণাগুলি অভিকর্ষ দ্বারা প্রায় প্রভাবিত হয় না এবং লক্ষ্য এবং স্তরের অবস্থানগুলি অবাধে সাজানো যায়।